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839 最后的战役二(第1页)

重生千禧大玩家正文卷839最后的战役沪市,张江技术园区。

中微半导体总部的四周,布置了密密麻麻的电网和监控器,安保力量更是配备齐全。

一座不起眼的工厂里,沙领导、郑韩等一众领导,在陆飞的带领下,来到车间外。

隔着玻璃窗,就能看到一个巨型公交车大小的光刻机,身穿防尘服的工作人员正在操控这样的庞然大物,一个工作台完成扫描曝光的同时,另一个工作台也进行对准、调焦、下片等行动。

“因为芯片制造的过程中,并不是一次曝光就可以完成,而是需要经历多次曝光。”

“在曝光完一个区域之后,放置硅晶圆的曝光台就必须快速进行移动,接着曝光下一個需要曝光的区域,想要在这么多次快速移动中实现纳米级别的对准,双工作台就必须做到精度高而且操作时间短,这项技术本来只有ASML有,但现在已经被我们突破了。”

陆飞滔滔不绝,如数家珍。

领导们一言不发,目不转睛地盯着运行中的光刻机,虽然不是第一次见到光刻机,但一想到这是第一台国产的DUV浸润式光刻机,都压不住激动的心情,尽可能地往前靠,想凑得更一些,看得更清楚一些。

“了不起啊,小陆,你们了不起啊。”

沙领导满意道:“我记得是7年前还是8年前,也是在这里,你让我看的是65nm干式光刻机,还向我保证绝对能搞出属于我们自己的国产的浸润式光刻机,我本来以为要花10年甚至更长的时间,没想到你给了我们一个大大的惊喜啊!这么快让你们搞出来了!”

“哪里,哪里,领导。”

陆飞露出谦虚而内敛的笑容。

“说说吧,到底是怎么搞出来的?”

沙领导眼里满是赞赏之色。

“其实这并不是逻辑和中微两家的功劳,我们只负责整体的统筹调度和集成研发。”

陆飞笑道:“DUV浸润式光刻机能成功,完完全全归功于参与到整个项目的全体员工、科研人员们,是他们的血汗和信念,才有了今天的光刻机,当然也离不开领导们的支持,地方上的政策,还有相关公司、院校、国企单位的合作。”

顿了顿,“可以说,这台DUV浸润式光刻机凝结了华夏半导体从业人员的智慧和野心,也代表着目前国内光刻机的最高水平,距离国际一线的EUV光刻机,只有一代的代差了。”

“生产7nm的良品率是多少?”

郑韩脸上挂着得意的笑容。

毕竟,如此国之重器出自张江技术园区,沪市毫无疑问当得上“华夏半导体之都”。

“不同的芯片不同的良率,但基本能稳定在70%,慢慢调试改进,可以达到80%。”

陆飞比比画画道:“完全可以比肩AMSL,只用4个光罩、4次曝光,就可以达到7nm制程工艺。”

沙领导问道:“现在逻辑和华为的手机用的都是7nm制程工艺的芯片对吗?”

陆飞点了下头,“没错,7nm是目前市面上最先进的制程工艺,不过根据摩尔定律,再过个一两年,就可能突破到5nm。”

“5nm是不是就需要EUV光刻机了?”

郑韩好奇道。

“有EUV光刻机固然是好,只要一次曝光,一个光罩就能实现7nm、5nm,但没有EUV光刻机也无妨,有这台DUV浸润式光刻机也可以做到。”

陆飞露出个看似轻松的笑容。

“喔?”

顷刻间,一众领导的目光齐聚于他。

“梁博士想到的方案,如果把光刻机极限使用,经过6个光罩,9次曝光,也可以实现5nm工艺。”陆飞直截了当地回答。

一个戴着玳瑁眼镜的领导担忧道:“光刻机这么极限使用,会不会影响到使用寿命?”

“还有良率。”

“是啊,经过这么多道曝光,任何一道工序失败,都可能满盘皆输,成本就上来了……”

领导们来回分析,议论纷纷。

陆飞只能一一回答,“损害寿命肯定会损害,良率低也肯定会低一些,成本自然也就会高一点,但这是没有办法的办法,目前EUV光刻机国产化要实现彻底突破,还有不少技术难题摆在面前,需要时间去攻破。”

();()  “比如呢?”

沙领导投去问询的目光。

“光刻机的技术难点主要集中在光源、反射镜、工作台,现在双工作台已经解决了,光源问题也突破了,就剩下物镜系统。”

陆飞直说道:“AMSL、尼康的光刻机用的是蔡司的技术,但蔡司愿意卖给AMSL、尼康,但绝对不会出口给我们。”

然后叹了口气,“没办法,我们只能从零开始,联合长春光机、徕卡、华为等联合研发,现在搞定了DUV浸润式的物镜系统,至于EUV的,恐怕需要很长一段时间。”

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